[发明专利]化学机械研磨机用的可挠膜无效
| 申请号： | 200910001100.5 | 申请日： | 2009-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101786259A | 公开（公告）日： | 2010-07-28 |
| 发明（设计）人： | 吴维岳 | 申请（专利权）人： | 吴奕德 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B37/04;H01L21/00;B24B41/06 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 尚世浩 |
| 地址： | 中国台湾嘉义县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是关于一种化学机械研磨机用的可挠膜，该可挠膜系装配于该化学机械研磨机的承载头上，该承载头包括一转轴、利用一快速接头套接于转轴上的一本体，且所述的可挠膜系套设于承载头的本体内部，该承载头内部区隔为独立的三个气密室，且承载设置有可三导管，藉由控制三支管的充、抽气，使本体升降及可挠膜产生相对应的变形，控制承载头吸附晶圆或抵压晶圆进行研磨作业，且其中可挠膜系为高洁净度的硅胶(silcone)，且在可挠膜接触晶圆的接触面上，以真空微米涂装聚对二甲苯(Poly-para-xylylene)，藉以降低可挠膜于作业作成中对晶圆产生的污染，以及改善制程中的滑片问题，进一步提高良率而降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨机 可挠膜 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨机用的可挠膜，该可挠膜包括一平面部，以及由平面部向上延伸的一套接部，该可挠膜藉由套接部套接于化学机械研磨机的承载头上，其特征在于：该可挠膜系由高洁净度的硅胶(silcone)所制成，且可挠膜外侧利用真空微米涂装方式涂布至少一层聚对二甲苯(Poly-para-xylylene)构成一涂布层，使涂布层形成可接触晶圆的一接触面。
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