[发明专利]涂层结构、用于形成其的化学组合物、及形成其的方法无效
申请号: | 200910002505.0 | 申请日: | 2009-01-12 |
公开(公告)号: | CN101775243A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
发明(设计)人: | 洪颀祥 | 申请(专利权)人: | 毅嘉科技股份有限公司 |
主分类号: | C09D5/16 | 分类号: | C09D5/16;C09D7/12;C09D201/00;B05D1/38;B05D3/00;B05D3/02;B05D3/06 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供涂层结构、用于形成其的化学组合物、及形成其的方法。本发明的涂层结构包括经紫外光固化的树脂层及氟化物单分子层。该树脂层另外包含的有机硅分子的有机硅基团自树脂层的表面延伸出来,蜡类细粉与纳米氧化物颗粒自树脂层的表面露出而形成微观的山峰-山谷结构。氟化物单分子层的氟化分子与树脂层的表面形成化学键结以露出含氟基团。在形成涂层结构时,须使紫外光可固化树脂层先部分固化,然后将氟化分子活化以使其与树脂层表面键结,再将紫外光可固化树脂层完全固化。 | ||
搜索关键词: | 涂层 结构 用于 形成 化学 组合 方法 | ||
【主权项】:
一种涂层结构,包括:形成于待涂覆基底表面的经紫外光固化的树脂层,该树脂层还包含有机硅分子、蜡类细粉及纳米氧化物颗粒,该有机硅分子的有机硅基团自该树脂层的表面延伸出来,该蜡类细粉与该纳米氧化物颗粒自该树脂层的表面露出而形成微观的山峰-山谷结构;及形成于该经紫外光固化的树脂层表面的氟化物单分子层,其中该氟化物单分子层的氟化分子与该树脂层的表面形成化学键结,以露出含氟基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于毅嘉科技股份有限公司,未经毅嘉科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910002505.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。