[发明专利]三维阵列半导体存储设备及其修复方法无效

专利信息
申请号: 200910003208.8 申请日: 2009-01-15
公开(公告)号: CN101499320A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 金杜坤;朴起台 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C17/14 分类号: G11C17/14;G11C29/44;G11C17/16
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 钱大勇
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明公开了一种三维阵列半导体存储设备及其修复方法。一种非易失性存储设备包括三维(3D)单元阵列、列选择电路和熔丝块。该3D单元阵列包括位于相应堆叠衬底层中的多个单元阵列,所述单元阵列共享位线。列选择电路选择包括在3D单元阵列中的存储单位。熔丝块控制列选择电路利用位于3D单元阵列中的多个冗余位线之一来修复有缺陷的列。
搜索关键词: 三维 阵列 半导体 存储 设备 及其 修复 方法
【主权项】:
1. 一种非易失性存储设备,包括:三维3D单元阵列,包括位于相应多个堆叠衬底层中的多个单元阵列,所述单元阵列共享位线;列选择电路,选择包括在该3D单元阵列中的存储单位;以及熔丝块,控制该列选择电路利用位于3D单元阵列中的多个冗余位线中的一个来修复多个有缺陷的列。
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