[发明专利]非易失性半导体存储装置无效
申请号: | 200910003694.3 | 申请日: | 2009-01-19 |
公开(公告)号: | CN101488502A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 儿玉典昭;日高宪一;小畑弘之;大沼卓司 | 申请(专利权)人: | 恩益禧电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;H01L23/525 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 谢丽娜;关兆辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种非易失性半导体存储装置,其具有动作电压种类少、可减小周边电路的电路规模的存储单元,具有:选择晶体管8,其在半导体基板1的通道两侧具有源极/漏极(3),并且在通道上,通过厚栅极绝缘膜(4)而具有栅极电极(6);元件分离区域(2),形成在与选择晶体管(8)相邻的区域的半导体基板(1)上;反熔丝(9),与元件分离区域(2)相邻,并且在半导体基板(1)上形成下部电极(27),在元件分离区域(2)和下部电极(27)之间的区域的半导体基板(1)上,通过薄栅极绝缘膜(5)而具有上部电极(7);和连接接触器(28),电连接源极(3)和上部电极(7)之间,并且与源极(3)及上部电极(7)接触。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种非易失性半导体存储装置,其特征在于,具有:选择晶体管,其在半导体基板的通道两侧具有形成源极/漏极区域的扩散层,并且在上述通道上,通过第1栅极绝缘膜而具有栅极电极;元件分离区域,形成在与上述选择晶体管相邻的区域的上述半导体基板上;反熔丝,具有在上述半导体基板上形成的下部电极,并且与上述元件分离区域相邻,且在上述元件分离区域和上述下部电极之间的区域的上述半导体基板上,通过第2栅极绝缘膜而具有上部电极;以及连接接触器,电连接上述源极/漏极区域中的一方和上述上部电极之间,并且与上述源极/漏极区域中的一方及上述上部电极接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的