[发明专利]测量和监控曝光机台的数值孔径的方法、控片和光掩模

摘要

本发明公开了测量和监控曝光机台的数值孔径的方法、控片和光掩模。在该测量曝光机台的数值孔径的方法中，首先提供控片及像差光掩模，其中控片上有多个刻度尺标记，像差光掩模上则有多个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置。接着使用曝光机台与像差光掩模对控片进行光刻工艺，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与曝光机台的光源的照光图案相同的光致抗蚀剂图案，再由光致抗蚀剂图案外缘所对应的刻度尺标记的刻度求得曝光机台的数值孔径。使用本发明的测量曝光机台数值孔径的方法可容易地求得曝光机台的数值孔径，而不须使用昂贵的数值孔径测量仪器。

主权项

一种测量曝光机台的数值孔径的方法，该曝光机台的光源具有照光图案，该方法包括：提供控片，其上有多个刻度尺标记；提供像差光掩模，其上有多个针孔，其中每一个针孔的位置对应一个刻度尺标记的位置；使用该曝光机台与该像差光掩模对该控片进行光刻工艺，以在每一个刻度尺标记上方形成形状与该照光图案相同的光致抗蚀剂图案；以及由该光致抗蚀剂图案外缘所对应的该刻度尺标记的刻度求得该曝光机台的数值孔径。