[发明专利]图案化方法有效
| 申请号： | 200910005762.X | 申请日： | 2009-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101556437A | 公开（公告）日： | 2009-10-14 |
| 发明（设计）人： | 施仁杰;叶孝蔚 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 姜 燕;陈 晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种图案化方法，包括于基底上形成光致抗蚀剂图案，光致抗蚀剂图案于基底上包括至少一预期开口与至少一留白开口于其中，于光致抗蚀剂图案与基底上形成图案化感光材料层，其中图案化感光材料层覆盖光致抗蚀剂图案的留白开口，以及对光致抗蚀剂图案的预期开口进行化学微缩辅助光刻解析度强化工艺。本发明通过进行化学微缩辅助光刻解析度强化工艺，以缩小临界尺寸及/或增加聚焦深度。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案化方法，包括：于一基底上形成一光致抗蚀剂图案，该光致抗蚀剂图案于该基底上包括至少一预期开口与至少一留白开口于其中；于该光致抗蚀剂图案与该基底上形成一图案化感光材料层，其中该图案化感光材料层覆盖该光致抗蚀剂图案的该留白开口；以及对该光致抗蚀剂图案的该预期开口进行一化学微缩辅助光刻解析度强化工艺。
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