[发明专利]双折射测定方法、装置以及程序

摘要

本发明提供一种双折射测定方法、装置以及程序，其以简单的结构测定双折射特性，而无需花费较高成本等。双折射测定装置具有光源、偏振元件、相位元件、旋转检偏元件、感光器以及控制器。相位差薄膜插入在相位元件和旋转检偏元件之间。控制器将旋转检偏元件的透射轴方位和该透射轴方位时由感光器感光的光强度相关联而生成光强度数据。将偏振元件的透射轴方位为γ1时的第1光强度数据、和透射轴方位为γ2(γ2是与γ1不同的方位)时的第2光强度数据，存储到光强度数据存储部中。基于第1或者第2光强度数据，求出相位差薄膜的主轴方位，同时，基于相位差薄膜的主轴方位、第1光强度数据、及第2光强度数据，求出相位差薄膜的延迟量。

主权项

1. 一种双折射测定方法，其使用光源、偏振元件、相位元件、检偏元件透射轴方位以固定的旋转角度进行变化的旋转检偏元件、以及感光器，在所述相位元件和所述旋转检偏元件之间插入测定对象，求出所述测定对象的延迟量，其特征在于，具有：第1光检测步骤，其在将所述偏振元件的透射轴固定在第1透射轴方位的状态下，使来自所述光源的光，经由所述偏振元件、所述相位元件、所述测定对象、以及所述旋转检偏元件，由所述感光器进行检测；第1光强度数据生成步骤，其在所述第1光检测步骤后，将所述旋转检偏元件的透射轴方位和该透射轴方位时由所述感光器检测出的光的强度相关联而生成第1光强度数据；透射轴方位变更步骤，其将所述偏振元件的透射轴从所述第1透射轴方位变更为与所述第1透射轴方位不同的第2透射轴方位；第2光检测步骤，其在将所述偏振元件的透射轴固定在所述第2透射轴方位的状态下，进行与所述第1光检测步骤相同的步骤；第2光强度数据生成步骤，其在所述第2光检测步骤后，进行与所述第1光强度数据生成步骤相同的步骤，生成第2光强度数据；主轴方位计算步骤，其基于所述第1或者第2光强度数据，求出所述测定对象的主轴方位；以及延迟量计算步骤，其基于所述测定对象的主轴方位、所述第1光强度数据、以及所述第2光强度数据，求出所述测定对象的延迟量。