[发明专利]半导体器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200910009626.8 申请日: 2009-01-23
公开(公告)号: CN101499445A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 定别当裕康 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L21/50;H01L21/60
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 许玉顺;胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种半导体器件及其制造方法。在具有外部连接用电极(14a)的半导体结构体(6)的下表面,形成绝缘膜(1)和金属层(3)及掩模金属层(4),绝缘膜(1)具有比半导体结构体(6)的平面尺寸大的平面尺寸,金属层(3)及掩模金属层(4)具有连接焊盘部(2a),在连接焊盘部(2a)形成有与外部连接用电极(14a)对应的第一开口部(5)。通过以掩模金属层(4)为掩模照射激光束,从而在与外部连接用电极(14a)对应的部分的绝缘膜(1)上形成第2开口部(17)。另外,形成经由绝缘膜(1)的第2开口部(17)将布线(3)与外部连接用电极(14a)进行连接的连接导体(21)。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1. 一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体结构体(6),具有半导体衬底(8)及在该半导体衬底(8)上设置的外部连接用电极(14a);布线(3),具有连接焊盘部(2a),该连接焊盘部(2a)形成有第1开口部(5a),该第1开口部(5a)与上述半导体结构体(6)的上述外部连接用电极(14a)对应地形成;绝缘膜(7或1),设在上述外部连接用电极(14a)与连接焊盘部(2a)之间,具有与上述第1开口部(5)连通并到达上述外部连接用电极(14)的第2开口部(17);连接导体(21),经由上述第1开口部(5)及上述第2开口部(17),将外部连接用电极(14a)和上述布线(3)进行电连接;以及掩模金属层(4),形成在上述连接导体(21)与上述布线(3)之间。
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