[发明专利]一种药用蒙脱石X射线衍射图谱鉴别标准无效
| 申请号： | 200910013765.8 | 申请日： | 2009-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101504379A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 张为胜;李诗标;许翠萍;徐东峰;张梅雪 | 申请（专利权）人： | 济南康众医药科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;A61K33/06;A61P1/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250014山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种药用蒙脱石的X射线衍射图谱鉴别标准，其特征在于蒙脱石X射线衍射图谱的特征谱线在约1.5nm和约0.45nm波长处，图谱中其它杂质峰强度不得高于蒙脱石的第二个特征峰(约0.45nm波长处)，其中在约0.40nm波长处和约0.33nm波长处的两个杂质峰强度之和不得高于蒙脱石的第二个特征峰(约0.45nm波长处)。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 药用 蒙脱石 射线 衍射 图谱 鉴别 标准 | ||
【主权项】：
1、一种药用蒙脱石的X射线衍射图谱鉴别标准，其特征在于蒙脱石X射线衍射图谱的特征谱线在约1.5nm和约0.45nm波长处，图谱中其它杂质峰强度不得高于蒙脱石的第二个特征峰(约0.45nm波长处)，其中在约0.40nm波长处和约0.33nm波长处的两个杂质峰强度之和不得高于蒙脱石的第二个特征峰(约0.45nm波长处)。
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