[发明专利]一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法无效
| 申请号： | 200910019692.3 | 申请日： | 2009-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN101570608A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 梁延民;冷亮;曹会民;伊常亮 | 申请（专利权）人： | 垦利三合新材料科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C08L23/00 | 分类号： | C08L23/00;C08K13/02;C08K9/04;C08K3/26;C08K5/05;C08J3/20;C08J3/12;C08K5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 257500山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，主要用于一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备。采用无机纳米碳酸钙颗粒为载体在表面包覆剂的作用下与抗菌剂混合后制得无机纳米抗菌母粒，将光降解剂、制备好的抗菌母粒与烯烃类原料、增溶剂、增塑剂、交联剂、分散剂按一定比例在170-180℃的温度下经双螺杆机熔融共混，在烯烃类原料的主链上引入光降解剂，冷却后切粒制得高性能合成型光降解抗菌塑料，所制得的高性能合成型光降解抗菌塑料密度1.05-1.3g/cm3，拉伸强度≥15MPa，断裂伸长率≥400％，分解度≥99％。该种产品广泛用于母料、包装膜、食品包装袋、一次性餐盒、医疗等行业。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 性能 成型 光降解 抗菌 塑料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种高性能合成型光降解抗菌塑料的制备方法，主要由无机材料包覆、熔融共混、冷却切粒等工艺组成，其特征是：采用无机纳米碳酸钙颗粒为载体在表面包覆剂的作用下与抗菌剂混合后制得无机纳米抗菌母粒，将光降解剂、制备好的抗菌母粒与烯烃类原料、增溶剂、增塑剂、交联剂、分散剂按一定比例在170-180℃的温度下经双螺杆机熔融共混，在烯烃类原料的主链上引入光降解剂，冷却后切粒制得高性能合成型光降解抗菌塑料，所制得的高性能合成型光降解抗菌塑料密度1.05-1.3g/cm3，拉伸强度≥15MPa，断裂伸长率≥400％，分解度≥99％。
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