[发明专利]一种结构信息融合的电阻抗断层成像方法有效

专利信息
申请号: 200910022777.7 申请日: 2009-06-01
公开(公告)号: CN101564294A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 董秀珍;付峰;徐灿华;刘锐岗;史学涛;尤富生 申请(专利权)人: 中国人民解放军第四军医大学
主分类号: A61B5/053 分类号: A61B5/053
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 张震国
地址: 710038*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种结构信息融合的电阻抗断层成像方法。该方法通过提取成像目标内部结构信息,将其转换成电阻抗断层成像所需的先验信息,结合所得先验信息进行电阻抗断层成像,重构出结构信息融合的电阻抗断层图像来实现其功能。该方法实现结构图像与电阻抗图像的融合成像,提高了电阻抗图像作为功能图像的准确性,改善图像的分辨率,同时有助于使用者对电阻抗图像的分析。
搜索关键词: 一种 结构 信息 融合 阻抗 断层 成像 方法
【主权项】:
1、一种结构信息融合的电阻抗断层成像方法,其特征在于,包括下述步骤:1)首先将定标物粘贴于待测体表面电阻抗测量电极粘贴处并对电极位置进行定标;2)然后通过结构成像装置对待测体进行结构成像,通过结构信息采集装置采集结构成像装置测得的结构图像并输出到EIT系统中;3)由EIT系统将结构信息采集装置采集的结构图像通过前处理提取EIT的先验信息并将提取好的先验信息保存到EIT系统内;4)由EIT系统读取已提取的先验信息,根据采集的实时阻抗测量数据重构出基于先验信息的EIT图像;5)最后EIT系统将采集的结构图像和重构出的基于先验信息的EIT图像进行融合得到结构信息融合的EIT图像;并由EIT系统保存、打印所得的结构信息融合的EIT图像。
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