[发明专利]一种碳纳米管场致发射显示器下基板结构的制作方法

摘要

本发明涉及一种场致发射显示器，具体涉及一种碳纳米管场致发射显示器下基板结构的制作方法。先在场致发射显示器的下基板上制得栅极电极层，再在栅极电极层上印刷整面水溶性绝缘介质层，再在水溶性绝缘介质层上印刷整面阴极电极层，再利用菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层进行曝光显影，再利用阴极电极层作掩膜，对整面水溶性绝缘介质层进行湿法刻蚀，形成与阴极电极层相同图形的水溶性绝缘介质层；在阴极电极层上印刷致密薄层材料层，在致密薄层材料层上覆盖碳纳米管阴极材料层，最后对致密薄层材料层和碳纳米管阴极材料层同时进行烧结。本发明避免了向栅极孔中填充碳纳米管的困难，把碳纳米管层置于阴极电极层上方。

主权项

1.一种碳纳米管场致发射显示器下基板结构的制作方法，其特征在于：包括以下操作步骤：①先在场致发射显示器的下基板(1)上制得包含有多个平行条状栅极电极组成的栅极电极层(2)；②再在栅极电极层(2)上印刷整面水溶性绝缘介质层(3)，对水溶性绝缘介质层(3)进行烘干后高温烧结；③然后在烧结水溶性绝缘介质层(3)上印刷整面阴极电极层(4)，将阴极电极层(4)烘干；所述的阴极电极层(4)材料为感光性银浆；④再利用阴极电极层(4)的菲林图形模型做掩膜，通过光刻法对整面阴极电极层(4)进行曝光显影，使整面阴极电极层(4)形成由多个平行条状阴极电极组成的阴极电极层(4)；所述光刻后阴极电极层(4)与栅极电极层(2)垂直交叉；⑤利用步骤④制得的光刻后阴极电极层(4)作为掩膜，对整面水溶性绝缘介质层(3)进行湿法刻蚀，使整面水溶性绝缘介质层(3)形成与阴极电极层(4)相同图形的水溶性绝缘介质层(3)；⑥将阴极电极层(4)进行烧结；⑦在烧结后的阴极电极层(4)上印刷致密薄层材料层(5)，再将致密薄层材料层(5)烘干；⑧然后在致密薄层材料层(5)上覆盖碳纳米管阴极材料层(6)，再将碳纳米管阴极材料层(6)烘干；⑨再对致密薄层材料层(5)和碳纳米管阴极材料层(6)同时进行烧结，使致密薄层材料层(5)和碳纳米管阴极材料层(6)成型；⑩最后将整个下基板超声波处理，去除表面杂质，增强碳纳米管阴极材料层(6)的发射性能。