[发明专利]浸渍下沉镀膜装置无效

专利信息
申请号: 200910023565.0 申请日: 2009-08-11
公开(公告)号: CN101637750A 公开(公告)日: 2010-02-03
发明(设计)人: 李二元;王秀峰;伍媛婷;徐文杰;王海震 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: B05C3/09 分类号: B05C3/09;B05C11/00;B05C13/00;B05C21/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 徐文权
地址: 710021陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种浸渍下沉镀膜装置,包括下箱体以及设置在下箱体内的带有阀门的滴漏装置,在下箱体上设置有支撑轴,支撑轴上套装有工作轴,工作轴上设置有固定基片用的基片夹具,基片夹具的正下方设置有盛水的容器,且滴漏装置与该容器相连通,在容器内放置有漂浮台,且在漂浮台上开设有用于放置烧杯的凹槽。本发明采用下沉浸渍制备镀膜,镀膜用基片不动,盛溶胶的烧杯缓慢下沉从而实现在基片上镀膜。它具有容器下沉速度稳定,速度控制范围广,操作方便简单,能够方便、快速、大批量、大面积的制备均匀薄膜而且还可以实现任意形状的均匀镀膜,设计简单,操作方便,镀膜用设备成本低。
搜索关键词: 浸渍 下沉 镀膜 装置
【主权项】:
1、一种浸渍下沉镀膜装置,其特征在于:包括下箱体以及设置在下箱体内的带有阀门的滴漏装置,在下箱体上设置有支撑轴(20),支撑轴(20)上套装有工作轴(19),工作轴(19)上设置有固定基片(15)用的基片夹具(18),基片夹具(18)的正下方设置有盛水的容器(11),且滴漏装置与该容器(11)相连通,在容器(11)内放置有漂浮台(13),且在漂浮台(13)上开设有用于放置烧杯(12)的凹槽。
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