[发明专利]基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法无效
| 申请号： | 200910030341.2 | 申请日： | 2009-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101592777A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 张瑞英;董建荣;杨辉 | 申请（专利权）人： | 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G02B19/00 | 分类号： | G02B19/00;G02B3/08;G02B1/10;H01L31/052;C23F1/14;C23F4/00 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 215125江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，首先设计加工适度聚焦倍数的聚光器；然后在清洁的聚光器两面沉积一定厚度的金属层，再高温快速退火形成适度大小的金属球；继而在金属球的掩膜下，经干法刻蚀，在聚光器两面形成一定深度的亚波长结构；最后通过相应的金属湿法腐蚀液去除相应的金属球，获得亚波长结构的高效全光谱广角透射的聚光器。采用亚波长结构的聚光器，可以在宽光谱大角度范围内获得良好的增透效果，可有效提高聚光器的收集效率；而且该种亚波长结构只是在原有聚光器材料上形成，无需外来介质，因此，增透效果更加稳定持久。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 结构 光谱 广角 聚光器 制作方法 | ||
【主权项】：
1.基于纳米结构的全光谱广角聚光器的制作方法，其特征在于：包括以下步骤——①首先加工聚光器；②在聚光器的两面沉积金属膜；③将沉积金属膜的聚光器放入退火炉中，热退火形成金属球；④在金属球的掩膜下，经干法刻蚀，使聚光器两面形成亚波长结构；⑤采用金属腐蚀液湿法刻蚀去除金属球，获得亚波长结构的高效全光谱广角透射的聚光器。
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