[发明专利]荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法无效
| 申请号： | 200910032698.4 | 申请日： | 2009-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN101593648A | 公开（公告）日： | 2009-12-02 |
| 发明（设计）人： | 黄秋铭;张雄;樊兆雯;朱立锋;王保平;李青;林青园 | 申请（专利权）人： | 南京华显高科有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人： | 夏 平 |
| 地址： | 210061江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，先在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质，然后通过烘干、曝光、显影等方法，使得光敏介质仅仅覆盖在电极线上，而电极线间则无介质存在，将制作好介质层后的荫罩式PDP面板经冲洗、烘干后，再通过低温烧结工艺形成玻璃化的绝缘介质层，并使得介质层能将电极线完全包裹住。本发明具有介质层制作的方法简单、生产成本低、介质层的性能稳定和多次印刷烧结后介质层透明度透明度依然好的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 荫罩式 等离子体 显示 光敏 介质 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备方法，其特征是它包括以下步骤：(a).在预先制作好电极并清洗干净的荫罩式等离子体显示板上印刷或涂覆一层光敏介质层，然后在180～230℃左右条件下烘干20～30min；(b).将掩膜板和荫罩式等离子体显示板对位准确使得掩膜板遮盖荫罩式等离子体显示板的非电极区域，然后进行曝光30～90s，仅使得电极线正上方的光敏介质得到曝光固化；(c).将曝光后的荫罩式等离子体显示板放在碱性显影溶液中进行显影，显影时间为1～20min；(d).对显影后的荫罩式等离子体显示板进行冲洗和烘干，然后在540～590℃的氧气气氛下进行烧结，使得光敏介质层将电极线完全包裹住完成荫罩式等离子体显示板的光敏介质层的制备。
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