[发明专利]金属雾化片的二元电沉积加工方法有效
| 申请号： | 200910033465.6 | 申请日： | 2009-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN101586247A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 周涛;李真明;黎增祺 | 申请（专利权）人： | 昆山美微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/08 | 分类号： | C25D1/08;B05B15/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董建林;孙永生 |
| 地址： | 215300江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属雾化片的二元电沉积加工方法，其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术，包括：设计金属雾化片的图形文件；采用不锈钢基板，将基板置于烘箱中烘烤；将光阻材料热压或印刷在基板上；按照设计好的金属雾化片的图形文件，制作负片光罩菲林，进行高精度曝光；将曝光后的基板在显影剂中清洗；将基板放入镍金电铸槽中进行二元电铸沉积加工；电铸沉积达到所需要的厚度后，将基板上的金属雾化片取下，放入超声波清洗机中进行清洗；抽样检查。本发明可以使金属雾化片的孔径达到2～10um的孔径要求，误差小，并满足雾化片2000～5000小时的使用寿命，使雾化片可以雾化液体颗粒达到5um以下的直径水平，降低了使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 雾化 二元 沉积 加工 方法 | ||
【主权项】：
1、一种金属雾化片的二元电沉积加工方法，其特征在于采用光电加工和二元电沉积技术，具体包括以下步骤：(1)、设计金属雾化片的图形文件；(2)、采用304不锈钢基板，经表面研磨处理、外观检查符合要求后，将基板置于烘箱中烘烤；(3)、将光阻材料热压或印刷在基板上；(4)、按照设计好的金属雾化片的图形文件，制作2000DPI的负片光罩菲林，在平行光机上进行高精度曝光；(5)、将曝光后的基板在1％的显影剂中进行清洗，使图形停留在基板上，并作图形尺寸及外观检查；(6)、将基板放入镍金电铸槽中的电铸溶液中进行二元电铸沉积加工，所述的二元电铸沉积加工是利用一定的电流沉积厚度，分别在光阻材料四周及上面沉积两次而成；(7)、电铸沉积达到所需要的厚度后，将基板上的金属雾化片取下，放入超声波清洗机中进行清洗；(8)、抽样检查、包装。
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