[发明专利]一种用于单晶硅绒面制备的正磷酸盐和苛性碱的混合溶液无效
| 申请号： | 200910035633.5 | 申请日： | 2009-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101671850A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 屈盛;余银祥;韩增华 | 申请（专利权）人： | 欧贝黎新能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226600江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用于单晶硅绒面制备的正磷酸盐和苛性碱的混合溶液，它涉及太阳电池制备的技术领域，特别是单晶硅太阳电池的生产技术中绒面的制备。它的配方由以下部分组成：正磷酸盐、苛性碱和异丙醇。它能解决现有的单晶硅制绒腐蚀液所导致的金字塔大小不均匀、硅片表面存在色差等缺点。它通过利用正磷酸盐来代替硅酸盐而获得了不同的单晶硅制绒腐蚀液，经实践证明，它可以制备出大小更为均匀、表面更为一致的绒面单晶硅片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 单晶硅 制备 磷酸盐 苛性碱 混合 溶液 | ||
【主权项】：
1、一种用于单晶硅绒面制备的正磷酸盐和苛性碱的混合溶液，其特征在于它的配方由以下部分组成：正磷酸盐、苛性碱和异丙醇。
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