[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200910045269.0 | 申请日： | 2009-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101775256A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、有机酸类化合物、核酸类化合物、氧化剂和载体。本发明的抛光液可在较低的研磨颗粒的用量下，保证抛光速率的同时，使缺陷、划伤、粘污和其它残留明显下降，从而降低衬底表面污染物；具有较高的铜的去除速率，以及较高的的铜/钽的去除速率选择比，可满足铜制程的抛光要求；可以防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀，提高产品良率。本发明的抛光液中含有可生物降解的核酸类化合物，使本发明的抛光液对环境更友好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于：其含有有机酸类化合物、核酸类化合物、研磨颗粒、氧化剂和载体。
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