[发明专利]用于光刻装置的对准标记、对准系统及其对准方法有效
| 申请号： | 200910045415.X | 申请日： | 2009-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101581889A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | 胡明辉;宋海军;王海江 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻装置的对准系统，包括刻有透射式对准标记的掩模或掩模台，及配置有参考标记的光强探测器等。其中，所述参考标记包括处于中心且具有二维结构的参考标记二维光栅，及多个围绕参考标记二维光栅配置、能用于两个方向对准的参考标记光栅结构；所述透射式对准标记包括用于与所述参考标记二维光栅进行粗对准且具有二维结构的对准标记二维光栅，及多个围绕对准标记二维光栅配置、用于与所述多个参考标记光栅结构进行精确对准的对准标记光栅结构，由此经过粗对准及精确对准，可有效提高对准精度，同时，由于各光栅分别都由透光部分和不透光部分组成，由此可提高对准信号的对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 对准 标记 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于光刻装置的对准标记，所述标记包括用于粗对准的第一部分结构和用于精对准的第二部分结构，其特征在于：所述第一和第二部分结构均由透光单元和不透光单元组成；所述第二部分结构包含多个光栅结构，所述每个光栅结构由多个非周期一维光栅标记排列而成，所述一维光栅标记中的透光单元呈轴对称分布。
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