[发明专利]浸没光刻机的浸液供给装置有效
| 申请号： | 200910045590.9 | 申请日： | 2009-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN101477314A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 孙文凤;陈文煜 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种浸没光刻机，尤其是涉及一种浸没光刻机的浸液供给装置。公开了一种浸没光刻机的浸液供给装置，包括浸液单元和浸液废弃单元，所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接，所述负压回收管路设有缓冲泄压结构。本发明通过在负压回收管路填充多孔介质材料或在负压回收管路管壁设置具有缓冲泄压作用的泄压凹腔的方式或两者同时采用方式来从源头阻隔振动源，进而抑制和消除振动传递，以达到减振的目的，确保浸液单元流场的稳定和均一性，以减少浸液波动对投影物镜及其上参考框架上灵敏度传感器的影响。由于浸液供给装置与光刻机本身解耦减振，故有利于干法光刻机到浸没光刻机的系统改造、集成和技术继承。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 浸液 供给 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种浸没光刻机的浸液供给装置，包括浸液单元和浸液废弃单元，所述浸液废弃单元通过负压回收管路与所述浸液单元连接，其特征在于：所述负压回收管路设有缓冲泄压结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910045590.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
