[发明专利]位置测量装置和位置测量方法有效

专利信息
申请号: 200910046063.X 申请日: 2009-02-10
公开(公告)号: CN101482395A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 单世宝;杨志勇;齐芊枫 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出一种位置测量装置,用以测量工件台的六自由度位置。该装置沿光路依次包括光源、分光镜组、光开关执行器系统、测量反射镜组和二维位置测量传感器。光源发射出入射光;分光镜组,将该入射光分为沿三个测量光路的光束;光开关执行器系统,电性连接至开关控制器,该开关控制器控制该光开关执行器系统依次开关三个测量光路;测量反射镜组;二维位置测量传感器,接收测量反射镜组反射的三个测量光路的光束。本发明提供的位置测量装置只包含一个二维位置测量传感器,可以显著降低成本。
搜索关键词: 位置 测量 装置 测量方法
【主权项】:
1. 一种位置测量装置,用以测量工件台的六自由度位置,其特征是,沿光路依次包括:光源,发射出入射光;分光镜组,将上述入射光分为沿三个测量光路的光束;光开关执行器系统,电性连接至开关控制器,上述开关控制器控制上述光开关执行器系统依次开关三个测量光路;测量反射镜组;以及二维位置测量传感器,接收测量反射镜组反射的三个测量光路的光束。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910046063.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top