[发明专利]一种足弓测量方法及装置无效

专利信息
申请号: 200910046464.5 申请日: 2009-02-23
公开(公告)号: CN101502419A 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 余竹生 申请(专利权)人: 上海体育学院
主分类号: A61B5/107 分类号: A61B5/107;A61B5/00
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 代理人: 严新德
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种足弓测量方法,包括一个获取足印的步骤、一个测量足印的步骤和一个评价足印的步骤,在获取足印的步骤中,先将染料涂覆在一个平面上,然后将该平面转移到测试对象的足底,并利用该平面来承载测试对象的足底压力并向足底转移染料,然后从足底移开该平面并将一个透明平板转移到足底,再利用透明平板的上表面来承载测试对象的足底压力并沾取足底的染料,在测量足印的步骤中,将一个评价图尺放置到透明平板的下表面进行测量。一种足弓测量装置,由一个薄层海棉和一个透明玻璃平板构成。本发明在透明平板上获得的足底印记与足底接触染料的情态相同,是测试对象的足底的真实承载重力面,再利用评价图尺进行测量,操作简便,准确性强,易于推广。
搜索关键词: 一种 足弓 测量方法 装置
【主权项】:
1. 一种足弓测量方法,包括一个获取足印的步骤、一个测量足印的步骤和一个评价足印的步骤,其特征在于:在所述的获取足印的步骤中,先将染料涂覆在一个平面上,然后将该平面转移到测试对象的足底,并利用该平面来承载测试对象的足底压力并向足底转移染料,然后从足底移开该平面并将一个透明平板转移到足底,再利用所述的透明平板的上表面来承载测试对象的足底压力并沾取足底的染料,从而在透明平板上取得足底印记,在所述的测量足印的步骤中,将一个评价图尺放置到透明平板的下表面,所述的评价图尺中设置有纵向标尺、横向标尺和两根以上数目的平行的纵轴线,将一根所述的纵轴线的前端对准所述的足底印记中的足第一跖骨头外侧缘,并将该纵轴线的后端对准足底印记中的足跟内侧缘,同时将另一根纵轴线对准足底印记中的足内侧缘,然后读取足第一跖骨头外侧缘与足第五跖骨侧头外侧缘的宽度,并记录为足底最宽印记宽度,同时读取足底印记最窄处的宽度,并记录为足底最窄印记宽度,在所述的评价足印的步骤中,根据足底最窄印记宽度与足底最宽印记宽度的比值获得足弓指数。
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