[发明专利]一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED有效

专利信息
申请号: 200910046837.9 申请日: 2009-02-27
公开(公告)号: CN101488548A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 潘尧波;郝茂盛;张国义;周健华;颜建锋 申请(专利权)人: 上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 余明伟
地址: 201203上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明揭示了一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED,在蓝宝石衬底上依次向上生长有GaN成核层、非掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱有源层、p型ALGaN载流子阻挡层及p型GaN层,所述多量子阱有源层包括:用于释放应力的多量子阱InxGa1-xN/GaN层、在所述多量子阱InxGa1-xN/GaN层上生长的且用于提高晶体质量改善电学性质的多量子阱InyGa1-yN/GaN层、及在所述多量子阱InyGa1-yN/GaN层上生长的多量子阱InzGa1-zN/GaN发光层。本发明提供的高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED能够改善结晶质量,较好地减少InGaN和GaN间的V型缺陷,提高LED的开启电压。
搜索关键词: 一种 in 组分 ingan gan 量子 结构 led
【主权项】:
1、一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED,在蓝宝石衬底上依次向上生长有GaN成核层、非掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱有源层、p型ALGaN载流子阻挡层及p型GaN层,其特征在于,所述多量子阱有源层包括:用于释放应力的多量子阱InxGa1-xN/GaN层、在所述多量子阱InxGa1-xN/GaN层上生长的且用于提高晶体质量改善电学性质的多量子阱InyGa1-yN/GaN层、及在所述多量子阱InyGa1-yN/GaN层上生长的多量子阱InzGa1-zN/GaN发光层,其中0
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