[发明专利]一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED有效
申请号: | 200910046837.9 | 申请日: | 2009-02-27 |
公开(公告)号: | CN101488548A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 潘尧波;郝茂盛;张国义;周健华;颜建锋 | 申请(专利权)人: | 上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201203上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明揭示了一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED,在蓝宝石衬底上依次向上生长有GaN成核层、非掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱有源层、p型ALGaN载流子阻挡层及p型GaN层,所述多量子阱有源层包括:用于释放应力的多量子阱InxGa1-xN/GaN层、在所述多量子阱InxGa1-xN/GaN层上生长的且用于提高晶体质量改善电学性质的多量子阱InyGa1-yN/GaN层、及在所述多量子阱InyGa1-yN/GaN层上生长的多量子阱InzGa1-zN/GaN发光层。本发明提供的高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED能够改善结晶质量,较好地减少InGaN和GaN间的V型缺陷,提高LED的开启电压。 | ||
搜索关键词: | 一种 in 组分 ingan gan 量子 结构 led | ||
【主权项】:
1、一种高In组分多InGaN/GaN量子阱结构的LED,在蓝宝石衬底上依次向上生长有GaN成核层、非掺杂GaN层、n型GaN层、多量子阱有源层、p型ALGaN载流子阻挡层及p型GaN层,其特征在于,所述多量子阱有源层包括:用于释放应力的多量子阱InxGa1-xN/GaN层、在所述多量子阱InxGa1-xN/GaN层上生长的且用于提高晶体质量改善电学性质的多量子阱InyGa1-yN/GaN层、及在所述多量子阱InyGa1-yN/GaN层上生长的多量子阱InzGa1-zN/GaN发光层,其中0
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学,未经上海蓝光科技有限公司;彩虹集团公司;北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910046837.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种充电装置
- 下一篇:具有反射式图案结构的发光装置