[发明专利]锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910046944.1 申请日: 2009-03-03
公开(公告)号: CN101514475A 公开(公告)日: 2009-08-26
发明(设计)人: 翟继卫;莫伟锋;尚飞 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02;H01L43/12;H01L43/10
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 许亦琳
地址: 200092上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及电子材料与器件领域,公开了一种锆钛酸铅—铁酸钴厚膜的制备方法,该方法的步骤包括:将Pb(Zr0.52Ti0.48)O3粉体和CoFe2O4粉体分散在溶剂中制成浓度均匀的悬浮液,然后在恒电场条件下经过电泳沉积制备而成。本发明制得的锆钛酸铅—铁酸钴厚膜具有良好的电性能和磁性能,可应用于制备厚膜传感器,位移器,具有设备简单,成本低、成膜快、组分易于调整等特点,可大规模制备膜材料。
搜索关键词: 锆钛酸铅 铁酸钴厚膜 制备 方法
【主权项】:
1、一种锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法,包括如下步骤:1)先将锆钛酸铅粉体、铁酸钴粉体混合并分散于分散介质中制成悬浮液;2)将电极放置在悬浮液中,保持两极板平行;3)在恒电场条件下,电泳沉积获得厚膜;4)将电泳完毕后所得厚膜进行等静压处理;5)将经过等静压处理的厚膜在高温环境下热处理,制得锆钛酸铅-铁酸钴厚膜。
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