[发明专利]一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板及其制备方法无效
| 申请号： | 200910048398.5 | 申请日： | 2009-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101519276A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 钱蕙春;蒋伟忠 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术学院 |
| 主分类号： | C03C8/08 | 分类号： | C03C8/08;C23D1/00;C23D5/02;C23D11/00;B01J21/06 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200235*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板及其制备方法。原料的化学组成重量百分比为：SiO2：35.0～68.0％、Al2O3：0.5～3.0％、B2O3：10.0～20.0％、TiO2：12.0～20.0％、K2O：1.0～5.0％、Na2O：5.0～12.0％、Na2SiF6：3.0～8.0％、P2O5：1.0～3.0％。制备方法，包括将原料混合、熔化、淬冷、烘干制得搪瓷熔块；再将搪瓷熔块与纳米二氧化钛等混合、研磨、过筛得搪瓷釉；再对除锈处理的钢板进行涂搪瓷釉，可得具有优良的光催化性能和化学稳定性的光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板，且制备工艺简单，生产成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光催化 纳米 氧化 搪瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板，其特征在于原料的化学组成重量百分比为：SiO2：35.0～68.0％Al2O3：0.5～3.0％B2O3：10.0～20.0％TiO2：12.0～20.0％K2O：1.0～5.0％Na2O：5.0～12.0％Na2SiF6：3.0～8.0％P2O5：1.0～3.0％
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