[发明专利]折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法有效
| 申请号： | 200910048696.4 | 申请日： | 2009-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN101531468A | 公开（公告）日： | 2009-09-16 |
| 发明（设计）人： | 唐永兴;熊怀;李海元;陈知亚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所;上海大恒光学精密机械有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，采用先碱催化后酸催化的方法制备涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到多孔性二氧化硅膜层。本发明制备的膜层具有高硬度、高化学稳定性、自洁性好和宽带减反的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 可控 多孔 二氧化硅 减反膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种折射率可控的多孔性二氧化硅减反膜的制备方法，其特征在于该方法是采用先碱催化后酸催化的方法制备含有三维结构二氧化硅纳米颗粒和一维、二维结构硅氧链的复合纳米结构的涂膜液，适用于浸涂法、或喷涂法、或旋涂法，在基板上涂制多孔性二氧化硅基膜层，高温热处理后得到纯无机的多孔性二氧化硅膜层。
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