[发明专利]光刻技术中对准信号的处理方法有效
| 申请号： | 200910049046.1 | 申请日： | 2009-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101587306A | 公开（公告）日： | 2009-11-25 |
| 发明（设计）人： | 李运锋;王海江;赵新;陈延太;韦学志 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于幅值与相位分开探测的对准信号处理方法，该方法对来源于对准标记的粗对准信号进行分段归纳和估计峰值位置，通过粗对准信号模型拟合的方式确定标记的粗对准位置；对来源于对准标记的精对准信号化简归纳，通过精对准信号模型拟合的方式确定精对准信号的峰值点；并综合粗对准位置和精对准信号峰值点确定最终的对准位置。本发明提供的对准信号处理方法可以有效地提高对准信号处理效率，获得正确的对准位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 技术 对准 信号 处理 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻技术中对准信号的处理方法，包括：采集对准标记所产生的粗对准信号和精对准信号，分别对所述粗对准信号和精对准信号进行信号处理，获得粗对准位置与精对准信号的峰值点，以确定对准位置；其特征在于，所述粗对准信号处理包括信号分段归纳与峰值位置估计过程，用以确定拟合数据窗口；根据所述拟合数据窗口内的光强与位置采样，使用粗对准拟合模型，以获得模型参数。
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