[发明专利]一种CuxO基电阻型存储器的制备方法有效

专利信息
申请号: 200910051873.4 申请日: 2009-05-21
公开(公告)号: CN101894907A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 林殷茵;吕杭炳;周鹏;王明 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;G11C11/56;H01L21/8238
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 包兆宜
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种CuxO基电阻型存储器制备方法,属于集成电路制造技术领域。通过在CuSi化合物缓冲层上氧化形成CuxO基存储介质后,再对CuxO基存储介质进行硅化处理,能够在CuxO基存储介质中的掺入的更多Si元素,实现Si元素在CuxO基存储介质中整体分布相对更均匀,特别是在CuxO基存储介质上表层也形成了Si元素掺杂,从而提高该电阻型存储器的Ron和数据保持特性。采用该方法制备的CuxO电阻型存储器具有低功耗、长数据保持特性的优点。
搜索关键词: 一种 cuxo 电阻 存储器 制备 方法
【主权项】:
一种CuxO基电阻型存储器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对铜下电极构图硅化处理生成CuSi化合物缓冲层;(2)对所述CuSi化合物缓冲层氧化,生成CuxO基存储介质;(3)在所述CuxO基存储介质上硅化处理;(4)构图形成上电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910051873.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top