[发明专利]一种CuxO基电阻型存储器的制备方法有效
申请号: | 200910051873.4 | 申请日: | 2009-05-21 |
公开(公告)号: | CN101894907A | 公开(公告)日: | 2010-11-24 |
发明(设计)人: | 林殷茵;吕杭炳;周鹏;王明 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;G11C11/56;H01L21/8238 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 包兆宜 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种CuxO基电阻型存储器制备方法,属于集成电路制造技术领域。通过在CuSi化合物缓冲层上氧化形成CuxO基存储介质后,再对CuxO基存储介质进行硅化处理,能够在CuxO基存储介质中的掺入的更多Si元素,实现Si元素在CuxO基存储介质中整体分布相对更均匀,特别是在CuxO基存储介质上表层也形成了Si元素掺杂,从而提高该电阻型存储器的Ron和数据保持特性。采用该方法制备的CuxO电阻型存储器具有低功耗、长数据保持特性的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 cuxo 电阻 存储器 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种CuxO基电阻型存储器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对铜下电极构图硅化处理生成CuSi化合物缓冲层;(2)对所述CuSi化合物缓冲层氧化,生成CuxO基存储介质;(3)在所述CuxO基存储介质上硅化处理;(4)构图形成上电极。
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