[发明专利]位线合并的增益单元eDRAM单元及存储器有效
申请号: | 200910052482.4 | 申请日: | 2009-06-04 |
公开(公告)号: | CN101908370A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 林殷茵;薛晓勇 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G11C11/401 | 分类号: | G11C11/401;G11C11/409;G11C11/4063 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于动态随机存储器(DRAM)技术领域,具体为一种位线合并的增益单元eDRAM单元及存储器。本发明提供的增益单元eDRAM单元包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线、等效寄生电容以及一条位线,使用该条位线代替现有技术增益单元eDRAM单元的写位线和读位线,由于只包括一条位线,具有单元面积小的特点,并且在写位线和读位线合并后不影响增益单元eDRAM单元的存储特性。使用增益单元eDRAM单元的增益单元eDRAM具有存储密度相对高的特点。 | ||
搜索关键词: | 合并 增益 单元 edram 存储器 | ||
【主权项】:
一种增益单元eDRAM单元,包括读MOS晶体管、写MOS晶体管、写字线、读字线以及等效寄生电容,写MOS晶体管的栅极连接于所述写字线,其特征在于,还包括一条位线,写MOS晶体管的漏端/源端连接于所述位线,写MOS晶体管的源端/漏端连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的栅极连接于所述等效寄生电容的存储电荷端,读MOS晶体管的漏端/源端连接于所述位线,读MOS晶体管的源端/漏端连接于读字线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910052482.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电话远程按键语音双模式控制器
- 下一篇:PCM设备支持拨号功能的实现方法