[发明专利]一种用于硅抛光和清洗的溶液无效
| 申请号： | 200910052661.8 | 申请日： | 2009-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN101906272A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 杨春晓;王晨;荆建芬;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/18 | 分类号： | C09G1/18;C11D1/58;C11D1/50;C11D1/52 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种对硅进行化学机械抛光或表面清洗的溶液。该水溶液由水以及至少一种化合物组成。溶液中不含有研磨颗粒。溶液中的化合物可以为胍类或含有胍基的化合物，酰胺类或含有酰胺基的化合物，唑类或含有唑基的化合物，脲类或含有脲基的化合物，也可以是分子中同时含有胍官能团、唑官能团、脲官能团、以及酰胺官能团中的至少两种官能团的化合物或化合物的混合物。该溶液中还可以包括硅的抑制剂和/或金属离子络合剂化合物。采用该溶液对硅进行化学机械抛光或清洗，可以使得硅表面获得极低的表面粗糙度，极低的表面重金属离子含量，和极低的表面颗粒残留。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 清洗 溶液 | ||
【主权项】：
一种用于硅抛光和清洗的溶液，其包含：水和至少一种化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技(上海)有限公司，未经安集微电子科技(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910052661.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：微粒膜组合物
- 下一篇：COTS计算机故障导向安全的系统及方法
