[发明专利]光刻机工件台平衡定位系统有效
| 申请号： | 200910052810.0 | 申请日： | 2009-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN101571675A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 江旭初;齐芊枫;郑椰琴 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16F15/02;F16F15/28 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻机工件台平衡定位系统，本发明包括光刻机框架、底座、第一补偿模块、第一平衡质量块、两个第二补偿模块、第二平衡质量块、两个第二电机定子、两个第二电机动子、第一电机定子，以及至少一个放置于底座侧边的力矩消除器，本发明通过力矩消除器消除曝光台在加速时产生的反作用力矩，大幅度降低工件台系统在携带负载加速时对底座产生的冲击力。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机工 平衡 定位 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机工件台平衡定位系统，包括：光刻机框架；第一平衡质量块，通过气浮轴承和所述光刻机框架相连；其特征在于所述平衡定位系统还包括至少一个力矩消除器，所述力矩消除器都位于所述底座的侧边上，所述力矩消除器包括：力矩消除器底座，和所述第一平衡质量块刚性相连；力矩消除器电机动子，和所述力矩消除器底座刚性连接；力矩消除器平衡质量块，通过垂向气浮轴承和侧向气浮轴承和所述力矩消除器底座相连。
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