[发明专利]晶圆表面粗糙度检测方法有效
申请号: | 200910055374.2 | 申请日: | 2009-07-24 |
公开(公告)号: | CN101650170A | 公开(公告)日: | 2010-02-17 |
发明(设计)人: | 刘玮荪;杨建军;周侃;孔令芬 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G01B11/30 | 分类号: | G01B11/30 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 郑 玮 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种晶圆表面粗糙度检测方法,包括如下步骤:从同一批次的晶圆中挑选出至少三个不同粗糙度的晶圆作为样品;将每个所述样品放到粗糙度测试仪下进行检测,得出各自的粗糙度;将每个所述样品放到光学检测仪下进行检测,得出各自的反光度;建立所述粗糙度和所述反光度之间的关系式;将同一批次的晶圆逐个通过光学检测仪进行检测,得出每个所述晶圆的反光度,根据所述关系式,得出每个所述晶圆的粗糙度。本发明能够对晶圆表面的粗糙度进行实时的检测,有利于提高晶圆的质量。 | ||
搜索关键词: | 表面 粗糙 检测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆表面粗糙度检测方法,其特征在于包括如下步骤:从同一批次的晶圆中挑选出至少三个不同粗糙度的晶圆作为样品;将每个所述样品放到粗糙度测试仪下进行检测,得出各自的粗糙度;将每个所述样品放到光学检测仪下进行检测,得出各自的反光度;建立所述粗糙度和所述反光度之间的关系式;将同一批次的晶圆逐个通过光学检测仪进行检测,得出每个所述晶圆的反光度,根据所述关系式,得出每个所述晶圆的粗糙度。
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