[发明专利]化学机械抛光设备及其研磨液输送方法

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光设备，包括研磨头加压装置、旋转马达、研磨头平动滑轨、固定环、研磨头、硅片保持环、硅片、研磨垫、研磨台、研磨液输送装置；所述研磨头设置有研磨液输送器，研磨液输送器的一端与研磨液输送装置的管路连通，研磨液输送器的另一端通向硅片保持环边缘，研磨液输送器的出口设置于硅片的一侧。本发明在研磨液输送装置与研磨台之间设置了研磨液输送器，并将研磨液输送器设置于研磨头上，使研磨液随着研磨头及硅片同步平动，能够提高药液输送效率；并且能够将研磨液输送到研磨头的硅片保持环边缘，可以提高硅片的研磨均一性，从而提高研磨质量。本发明还公开了一种化学机械抛光设备的研磨液输送方法。

主权项

一种化学机械抛光设备，包括研磨头加压装置、旋转马达、研磨头平动滑轨、固定环、研磨头、硅片保持环、硅片、研磨垫、研磨台、研磨液输送装置；硅片通过硅片保持环固定于研磨头的底部，研磨头的顶部设有研磨头加压装置，研磨头加压装置上设有旋转马达，研磨头通过固定环连接在研磨头加压装置的旋转终端上，研磨头加压装置设置于研磨头平动滑轨内，研磨头的下方设置有研磨台，研磨台的上表面设置有研磨垫；其特征在于：所述研磨头设置有研磨液输送器，研磨液输送器的一端与研磨液输送装置的管路连通，研磨液输送器的另一端通向硅片保持环边缘，研磨液输送器的出口设置于硅片的一侧。