[发明专利]一种新型含硫醚或砜二酐及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 200910058618.2 | 申请日： | 2009-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101503398A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 杨刚 | 申请（专利权）人： | 成都金桨高新材料有限公司 |
| 主分类号： | C07D307/89 | 分类号： | C07D307/89;C07D495/04;C07D409/14;C07D417/14;C08G73/10 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 舒启龙 |
| 地址： | 610041四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种新型含硫醚或砜二酐及其制备方法和用途。上述二酐具有如下通式，并以上述二酐为原料与二胺化合物制备含硫醚或砜二酐的聚酰亚胺的方法。本发明通过简单的亲核取代反应合成出了带侧基的新型二酐单体，避免了使用价格昂贵，合成工艺复杂的金属钯复合催化剂。通过含硫醚和砜结构的二酐单体，可合成出具有更好溶解特性和加工性的聚酰亚胺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 含硫醚 砜二酐 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1、一种新型含硫醚或砜二酐，其特征是：所述硫醚型二酐为具有下述通式(I)的化合物：R1＝-H或卤素1X1＝H，CH3，CH2CH3，CF3，OCF3，OCH3，卤素，苯乙炔，X2＝H，卤素，SHX3＝H，卤素，SH，CNX4＝H，CH3，CH2CH3，CF3，OCF3，OCH3，卤素，苯乙炔R＝—，S其中R2可以选择与R1相同的基团，也可以选择不同的基团；但不同时选择H取代基；所述砜型二酐为具有下述通式(II)的化合物：R1＝-H或卤素1X1＝H，CH3，CH2CH3，CF3，OCF3，OCH3，卤素，苯乙炔，X2＝H，卤素，SO3HX3＝H，卤素，SO3H，CNX4＝H，CH3，CH2CH3，CF3，OCF3，OCH3，卤素，苯乙炔R＝—，砜，其中R2可以选择与R1相同的基团，也可以选择不同的基团；但不同时选择H取代基。
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