[发明专利]一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法有效
申请号: | 200910062768.0 | 申请日: | 2009-06-22 |
公开(公告)号: | CN101645480A | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
发明(设计)人: | 刘玉萍;魏世祯 | 申请(专利权)人: | 武汉华灿光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 江西省专利事务所 | 代理人: | 胡里程 |
地址: | 430223*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,该发光二极管外延片结构从下向上的顺序依次为衬底,低温缓冲层,未掺杂的氮化镓高温缓冲层,氮化铝镓/氮化镓超晶格结构,未掺杂的氮化镓高温缓冲层、N型接触层、N型氮化镓导电层、发光层多量子阱结构MQW、P型氮化铝镓电子阻挡层、P型氮化镓导电层、P型接触层,本发明在未掺杂的氮化镓高温缓冲层中插入了一氮化铝镓/氮化镓超晶格周期结构。氮化铝镓/氮化镓超晶格周期结构的插入能有效改善材料的晶体质量,从而提高氮化镓基发光二极管抗静电能力,提高器件的可靠性和稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 氮化 发光二极管 抗静电 能力 方法 | ||
【主权项】:
1、一种提高氮化镓基发光二极管抗静电能力的方法,该发光二极管外延片结构从下向上的顺序依次为衬底,低温缓冲层,未掺杂的氮化镓高温缓冲层u-GaN,氮化铝镓/氮化镓AlxGa1-xN/GaN,0<x<1超晶格结构,未掺杂的氮化镓高温缓冲层u-GaN,N型接触层,N型氮化镓导电层,发光层多量子阱结构MQW,P型氮化铝镓电子阻挡层,P型氮化镓导电层,P型接触层;其特征在于:在未掺杂的氮化镓高温缓冲层中插入了一氮化铝镓/氮化镓AlxGa1-xN/GaN,0<x<1,超晶格周期结构。
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