[发明专利]一种低松比铜粉直接还原发生器及工艺无效

专利信息
申请号: 200910064220.X 申请日: 2009-02-17
公开(公告)号: CN101474677A 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 郭屹宾;郭德林 申请(专利权)人: 漯河市华通冶金粉末有限责任公司
主分类号: B22F9/22 分类号: B22F9/22
代理公司: 郑州科维专利代理有限公司 代理人: 张欣棠
地址: 462000河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种低松比铜粉直接还原发生器及工艺。低松比铜粉直接还原发生器包括加料装置、还原炉管、出粉装置和气体加热装置。加料装置和出粉装置分别置于立式还原炉管上部和下部,气体加热装置置于立式还原炉管一侧并有管道连通。低松比铜粉在直接还原工艺过程中,是将氧化铜粉直接装入加料装置,经过立式还原炉管被加热的氮氢混合气体还原,最后由出粉装置得到松散的低松比纯铜粉。低松比铜粉直接还原发生器及工艺设备简易,工艺流程少,投资成本低,占地空间小,操作简单,维护方便。直接还原发生器可直接将氧化铜粉还原成松散的纯铜粉,不需要后续的破碎工序,使纯铜粉保持海绵状,从而大幅度降低纯铜粉的松比,提高质量,降低成本,经济效益显著。
搜索关键词: 一种 直接 还原 发生器 工艺
【主权项】:
1. 一种低松比铜粉直接还原发生器,其特征在于:该发生器包括加料装置、还原炉管、出粉装置和气体加热装置,加料装置和出粉装置分别置于还原炉管上部和下部,气体加热装置置于还原炉管一侧,二者有管道连通。
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