[发明专利]陶瓷晶须表面化学镀的方法无效
申请号: | 200910071451.3 | 申请日: | 2009-02-27 |
公开(公告)号: | CN101486594A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 姜建堂;甄良;邵文柱;徐成彦 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B41/88 | 分类号: | C04B41/88 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 陶瓷晶须表面化学镀的方法,它涉及陶瓷晶须表面化学处理的方法。本发明解决了由于陶瓷晶须的尺寸小导致获得连续的化学镀层困难的问题。本方法如下:一、将陶瓷晶须粗化处理,再敏化-活化处理,再加入去离子水制得陶瓷晶须悬浊液;二、将步骤一得到的陶瓷晶须悬浊液加入陶瓷晶须镀液在超声振荡的条件下施镀即可。本发明的方法提高了陶瓷晶须表面的浸润性从而在陶瓷晶须表面镀上得到连续的镀层。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷 表面 化学 方法 | ||
【主权项】:
1、一种陶瓷晶须表面化学镀的方法,其特征在于陶瓷晶须表面化学镀Co的方法如下:一、将陶瓷晶须粗化处理,再敏化-活化处理,再加入去离子水制得陶瓷晶须悬浊液;二、将Co镀液加入到步骤一得到的陶瓷晶须悬浊液中,然后在pH值为7~11.5、温度为30℃~60℃、超声振荡功率为2kW~4kW的条件下超声振荡20分钟~60分钟,过滤,再用去离子水清洗3次,然后在温度为60℃~80℃的条件下烘干,即完成了对陶瓷晶须表面进行化学镀;其中步骤二所述的Co镀液由CoSO4·7H2O、Na3C6H5O7·2H2O、NaH2PO2·H2O、H3BO3和去离子水组成,Co镀液中CoSO4·7H2O的浓度为15~50g/L,Na3C6H5O7·2H2O的浓度为30~150g/L,NaH2PO2·H2O的浓度为15~50g/L,H3BO3的浓度为20~40g/L;步骤一中的陶瓷晶须的质量与步骤二中Co镀液的体积比为1g∶400~1000mL。
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