[发明专利]CMP抛光液供应系统无效
| 申请号： | 200910075364.5 | 申请日： | 2009-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101648365A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 廖垂鑫;柳滨;陈威 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B24B37/04;B24B29/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 董金国 |
| 地址： | 065201河北省三*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体晶圆的化学机械抛光设备上的抛光液供应系统，本发明包括抛光液存储罐、设置在抛光液存储罐内的由搅拌电机和搅拌叶片构成的搅拌装置、设置在抛光液存储罐内的冷却液管以及设置在抛光液存储罐内的温度传感器，去离子水管和抛光液管通过三位三通电磁阀、液体流量计和抛光液存储罐相连通。采用本发明CMP抛光液供应系统的化学机械抛光设备在对晶圆进行抛光时，可获得所需一定浓度和一定温度的抛光液，这样可有效提高抛光质量，并且节约人力、物力、财力，有效提高生产效率，同时降低洁净厂房的维护成本。 | ||
| 搜索关键词： | cmp 抛光 供应 系统 | ||
【主权项】：
1、一种CMP抛光液供应系统，其特征在于其包括抛光液存储罐(6)、设置在抛光液存储罐(6)内的由搅拌电机(3)和搅拌叶片(5)构成的搅拌装置、设置在抛光液存储罐(6)内的冷却液管(4)以及设置在抛光液存储罐(6)内的温度传感器(9)，去离子水管(10)和抛光液管(11)通过三位三通电磁阀(1)、液体流量计(2)和抛光液存储罐(6)相连通。
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