[发明专利]高致密单相TiB2陶瓷的快速制备方法有效

专利信息
申请号: 200910080721.7 申请日: 2009-03-27
公开(公告)号: CN101508572A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 张久兴;周身林;张皓琨;刘丹敏;包黎红;马汝广 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/622;C04B35/64
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 沈 波
地址: 100124*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 高致密单相TiB2陶瓷的快速制备方法属于超硬耐磨陶瓷材料技术领域。TiB2陶瓷的传统制备方法存在烧结温度高、时间长、致密度不高及性能较差等问题。本发明将氢化钛(或钛)粉末与硼粉末按摩尔比2∶1研磨混匀后,装入石墨模具中加压压实,并放入SPS烧结炉中烧结,烧结工艺为:在轴向压力为30-60MPa,气氛为99.999%的高纯氩气或真空度高于5Pa的真空条件下,以90-180℃/min的升温速度升温至1350-1650℃,保温时间0-10min,而后随炉冷至室温,得到高纯致密TiB2陶瓷材料。本发明方法大幅降低了烧结温度、缩短了烧结时间,提高了TiB2的致密度和力学性能。
搜索关键词: 致密 单相 tib sub 陶瓷 快速 制备 方法
【主权项】:
1、一种高致密单相TiB2陶瓷材料的快速制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将氢化钛粉末或钛粉末中的一种与硼粉末按摩尔比1∶2研磨混匀后,装入石墨模具中加压压实;2)将装有粉末的石墨模具放入SPS烧结炉中进行反应烧结,烧结工艺为:在轴向压力为30-60MPa,气氛为99.999%的高纯氩气或真空度高于5Pa的真空条件下,以90-180℃/min的升温速度升温至1350-1650℃,保温时间0-10min,而后随炉冷至室温,得到高纯致密TiB2陶瓷材料。
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