[发明专利]一种非挥发性存储器以及其制造、编程和读取方法有效

专利信息
申请号: 200910081615.0 申请日: 2009-04-07
公开(公告)号: CN101859775A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 苏如伟 申请(专利权)人: 北京芯技佳易微电子科技有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/788;H01L29/06;H01L21/82;G11C16/26
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 苏培华
地址: 100084 北京市海*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种浮栅结构的非挥发性存储器,其中的存储单元包括:源极、漏极和浮栅;所述浮栅和漏极之间的耦合电容大于所述浮栅和源极之间的耦合电容;所述源极与位线相连,所述漏极与字线相连。本发明还提供了一种浮栅结构的非挥发性存储器的制造方法,包括:形成基材,所述基材包括衬底;在所述衬底的上部形成离子注入区;形成源漏对称管;所述源漏对称管的漏极位于所述离子注入区内,所述离子注入区的一部分位于所述源漏对称管的浮栅的下方,与浮栅部分重叠。本发明既不需要额外形成控制栅,也不需要形成选通管,即实际上本发明的存储单元只包含一个管子,其面积较小,符合现代半导体器件的发展需求。
搜索关键词: 一种 挥发性 存储器 及其 制造 编程 读取 方法
【主权项】:
一种浮栅结构的非挥发性存储器,其特征在于,其中的存储单元包括:源极、漏极和浮栅;所述浮栅和漏极之间的耦合电容大于所述浮栅和源极之间的耦合电容;所述源极与位线相连,所述漏极与字线相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京芯技佳易微电子科技有限公司,未经北京芯技佳易微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910081615.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top