[发明专利]一种在瓦楞辊表面注渗氮化硼特种陶瓷的方法无效

专利信息
申请号: 200910084986.4 申请日: 2009-06-05
公开(公告)号: CN101906605A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 杨金龙;刘炜;陈立辉;陈俊忠;肖武 申请(专利权)人: 清华大学;深圳市东方企业有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 周春发
地址: 100084 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种在瓦楞辊表面注渗氮化硼特种陶瓷的方法,其包含以下步骤:首先配置固体渗硼剂,将其涂抹在瓦楞辊表面,置于真空等离子热处理炉中;瓦楞辊与真空等离子热处理炉的阴极相连;抽真空、通氩气后启动真空等离子热处理炉的电源,产生活性硼离子;冷却后排出保护气氩气,抽真空后,充入氮气与氢气的混合气;再次启动真空等离子热处理炉的电源,产生活性氮离子;在此条件下,氮原子与之前渗透的硼原子均具有很高的活性,故两者极易在瓦楞辊表面结合,发生化学反应,形成氮化硼陶瓷层;本发明有效提高瓦楞辊的使用寿命,通过离子注渗的工艺,在瓦楞辊表面形成具有极高结合强度的氮化物耐磨陶瓷层,将瓦楞辊寿命延长至1500万长米,废品率控制在2%以下。
搜索关键词: 一种 瓦楞 表面 氮化 特种 陶瓷 方法
【主权项】:
一种在瓦楞辊表面注渗氮化硼特种陶瓷的方法,其特征在于包括以下步骤:步骤1:配制固体渗硼剂,所述固体渗硼剂由供硼剂、活化剂和填充剂三部分组成;步骤2:将上述步骤1中配制的固体渗硼剂均匀地涂抹在瓦楞辊表面,置于真空等离子热处理炉中,准备进行渗硼处理;瓦楞辊与真空等离子热处理炉的阴极相连;步骤3:将上述步骤2中的真空等离子热处理炉密封,开启真空系统,抽真空,真空室的极限真空度范围在133×10 2~5×133×10 1Pa;之后通入氩气,达到工作气压为10~80Pa;步骤4:启动真空等离子热处理炉的电源,真空炉内形成异常的辉光放电,产生活性硼离子,硼离子在辉光放电空间内各种等离子体的作用下,吸附在基体表面,夺取电子形成硼原子,并向基体内扩散,在极限溶解度之内,硼原子以溶质的形式存在于基体内;步骤5:提高工件电源电压,加大工件电流,使工件逐步升温,并保温;步骤6:保温结束后,切断真空等离子热处理炉的辉光电源,关闭阀门停止供气和抽气,工件冷却;步骤7:保持空心阴极真空炉内的瓦楞辊位置不变,排出保护气氩气,将真空室抽至真空度5~15Pa后,充入氮气与氢气的混合气,其中氮气含量的体积分数为25%~35%,混合气气压保持在(1~10)×133Pa之间;步骤8:再次启动真空等离子热处理炉的电源,炉内形成辉光放电,产生活性氮离子,氮离子在高压电场的作用下,高速轰击工件表面,夺取工件表面的电子后逐渐成为氮原子,被工件表面吸收,并向内扩散,在此条件下,氮原子与之前渗透的硼原子均具有很高的活性,故两者极易在瓦楞辊表面结合,发生化学反应,形成氮化硼陶瓷层;步骤9:提高工件电源电压,加大工件电流,使工件逐步升温,并保温渗氮;步骤10:保温结束后,切断辉光电源,关闭阀门停止供气和抽气,工件冷却;步骤11:取出工件,两端安装轴头后即可使用。
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