[发明专利]一种晶化硅纳米棒阵列的制备方法无效
申请号: | 200910086401.2 | 申请日: | 2009-06-12 |
公开(公告)号: | CN101570400A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | 刘丰珍;朱美芳;马艳红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院研究生院 |
主分类号: | C03C17/22 | 分类号: | C03C17/22;C04B41/50;C23C16/44;C23C16/24;B82B3/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 罗文群 |
地址: | 100049北京市海淀区玉泉路*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种晶化硅纳米棒阵列的制备方法,属于纳米硅材料的制备与应用技术领域。首先将清洗后的衬底放入真空腔的衬底架上,以高纯钨丝或钽丝作为热丝源,加热热丝,向真空腔中通入氢气和硅烷的混合气体作为反应气体,入射气流穿过所述的热丝源,衬底旋转。本发明方法采用掠角的热丝化学气相沉积技术,以硅烷和氢气作为反应气体,通过热丝分解后,掠角入射到衬底上,利用影蔽效应,在固定或旋转的衬底上定向生长倾斜或垂直的硅纳米棒。氢气的加入有利于促进纳米棒的晶化。用本方法制备硅纳米棒阵列,制备工艺简单,衬底温度低,可实现纳米棒的定向生长、低温晶化,可应用于太阳电池、微电子和传感器等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶化硅 纳米 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种晶化硅纳米棒阵列的制备方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)将清洗后的衬底放入真空腔的衬底架上,使真空腔的真空度为1×10-3帕-1×10-4帕;(2)在上述真空腔中,以高纯钨丝或钽丝作为热丝源,热丝源与所述的衬底之间的距离为7~17cm,使热丝温度达到1600-2000℃;(3)向真空腔中通入氢气和硅烷的混合气体作为反应气体,氢气和硅烷的比例为:氢气∶硅烷=1-5∶1,入射气流穿过所述的热丝源,入射气流与衬底法线之间的夹角为75°-85°,反应气体的气压为0.01-0.3帕,衬底旋转速率为0-30转/分。
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