[发明专利]掩膜基板和边框胶固化系统有效
| 申请号： | 200910089900.7 | 申请日： | 2009-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN101968606A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 占红明;王丹 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种掩膜基板和边框胶固化系统，其中掩膜基板包括透光部和掩膜部，所述透光部上设置有弧形突起。边框胶固化系统包括掩膜基板、二个玻璃基板以及位于所述二个玻璃基板之间的边框胶，所述掩膜基板包括透光部和掩膜部，所述掩膜基板的透光部上设置有弧形突起。本发明实施例提供的掩膜基板和边框胶固化系统，通过在掩膜基板的透光部设置弧形突起，从而能够对通过透光部上弧形突起的光线起到会聚作用，提高局部的光强，提高对边框胶的固化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜基板 边框 固化 系统 | ||
【主权项】：
一种掩膜基板，包括透光部和掩膜部，其特征在于，所述透光部上设置有弧形突起。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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