[发明专利]微结构薄膜图形和TFT-LCD阵列基板制造方法有效
| 申请号： | 200910091255.2 | 申请日： | 2009-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN101993032A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 龙春平;高浩然;徐纪罡 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01L21/82;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 曲鹏 |
| 地址： | 100016 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微结构薄膜图形和TFT-LCD阵列基板制造方法。微结构薄膜图形制造方法包括：在基板上形成一层薄膜；采用喷墨打印装置以设定的刻蚀图形在所述薄膜上喷射或滴下刻蚀剂；所述刻蚀剂对所述薄膜进行腐蚀；清洗所述刻蚀剂，在所述基板上形成薄膜图形。本发明不需要昂贵的设备投资，不仅降低了制造成本，而且有效缩短了生产周期，减小了交叉污染风险，提高了良品率。本发明微结构薄膜图形制造方法可以用于制备TFT-LCD阵列基板、柔性基板上的印刷电子电路、微电机以及其它适用于电脑和手机的集成电路芯片，具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 薄膜 图形 tft lcd 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种微结构薄膜图形制造方法，其特征在于，包括：步骤11、在基板上形成一层薄膜；步骤12、采用喷墨打印装置以设定的刻蚀图形在所述薄膜上喷射或滴下刻蚀剂；步骤13、所述刻蚀剂对所述薄膜进行腐蚀；步骤14、清洗所述刻蚀剂，在所述基板上形成薄膜图形。
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