[发明专利]一种真空离子镀膜方法

摘要

本发明涉及一种真空离子镀膜方法，属于真空镀膜技术领域。首先在镀膜设备的沉积室的设置柱弧源和点弧源，待加工工件悬挂在工件架上；使工件转动，升温抽真空；向沉积室内通入氩气或氮气，调节真空度，对工件施加负偏压进行辉光放电清洗；提高沉积室真空度，向沉积室内通入氩气，调节真空度和柱弧源电流，对工件进行放电清洗；再调节氩气的进气量、真空度、负偏压、柱弧源的工作电流和点弧源的工作电流，开始镀膜，以形成底膜过渡层，继续调节工艺参数，依次快速沉积硬质膜层和细腻、致密和光亮的硬质膜层。本发明方法结合点电弧和柱弧镀膜的优点，改善了镀膜层的致密度和表面光洁度，提高了镀膜层在工件上的附着力，使工件长期保持表面色彩。

主权项

1、一种真空离子镀膜方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)在镀膜设备的沉积室的中心设置柱弧源，沉积室的圆周壁上设置点弧源，待加工工件悬挂在沉积室的柱弧源和点弧源之间的工件架上；(2)使工件转动速度为1～3转/分钟，使沉积室内的温度达到150℃～260℃，使沉积室内的真空度达到4×10-2Pa～1×10-2Pa；(3)向沉积室内通人氩气或氮气，气体流量为200～480cm3/分钟，调节真空度为4～1.5Pa，对工件施加负偏压300-500V，对工件进行辉光放电清洗4～8分钟；(4)使沉积室内的真空度达到8×10-3Pa～4×10-3Pa，向沉积室内通入氩气，进气量为100-150cm3/分钟，调节真空度为5.0-2.0×10-2Pa，调节柱弧源电流为200-250A，对工件施加负偏压300-400V，对工件进行放电清洗4～7分钟；(5)调节氩气的进气量为100-300cm3/分钟，使真空度保持在5×10-1Pa～3×10-1Pa，对工件施加负偏压100-180V，调节柱弧源的工作电流为150A～235A，点弧源的工作电流为70A～100A，镀膜时间为4分钟～8分钟；(6)向沉积室内通入反应气体，反应气体流量为50～450cm3/分钟，调节氩气的进气量，使真空度保持在5×10-1Pa～3×10-1Pa，对工件施加负偏压100-180V，调节柱弧源的工作电流为150A～235A，点弧源的工作电流为70A～100A，镀膜时间为3分钟～5分钟；(7)使点弧源停止工作，调节反应气体和氩气的进气量，使真空度保持在5×10-1Pa～3×10-1Pa，对工件施加负偏压80-120V，调节柱弧源的工作电流为150A～235A，镀膜时间为5分钟～8分钟。