[发明专利]FFS型TFT-LCD阵列基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910091999.4 申请日: 2009-09-04
公开(公告)号: CN102012590A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 金原奭;金永珉;金馝奭 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;H01L21/82;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 曲鹏
地址: 100016 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种FFS型TFT-LCD阵列基板及其制造方法,阵列基板包括形成在基板上并限定了像素区域的栅线和数据线,所述像素区域内形成有像素电极、薄膜晶体管和与所述像素电极形成边缘电场的公共电极,还包括由金属薄膜材料制备的黑矩阵,所述黑矩阵与所述公共电极连接。制造方法包括:形成包括栅线、数据线、像素电极和薄膜晶体管的图形;形成包括公共电极和黑矩阵的图形,所述黑矩阵由金属薄膜材料制备,并与所述公共电极连接。本发明通过将黑矩阵图形设置在阵列基板上,且黑矩阵与公共电极连接,使黑矩阵不仅可以有效遮挡漏光区域,而且可以作为公共电极的连接总线,有效解决了现有结构生产成本高和公共电极延迟的技术缺陷。
搜索关键词: ffs tft lcd 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
一种FFS型TFT‑LCD阵列基板,包括形成在基板上并限定了像素区域的栅线和数据线,所述像素区域内形成有像素电极、薄膜晶体管和与所述像素电极形成边缘电场的公共电极,其特征在于,还包括由金属薄膜材料制备的黑矩阵,所述黑矩阵与所述公共电极连接。
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