[发明专利]阵列全环光子筛匀光器及其制作方法无效
申请号: | 200910093276.8 | 申请日: | 2009-09-16 |
公开(公告)号: | CN102023386A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 贾佳;谢长青;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B5/18;G02B27/42;G03F7/20;G03F7/36 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种阵列全环光子筛匀光器及其制作方法。该阵列全环光子筛匀光器是在透明介质上制造的全环光子筛阵列,采用全环光子筛作为基本单元,该全环光子筛是一个在透明基片上制造的基于菲涅尔波带片的多个圆孔,先在透明介质上制造衍射孔径为相应菲涅耳圆环的一倍光子筛,然后在其余的菲涅耳环带处仍然刻蚀圆孔,这样在波带片的奇数和偶数环带都有透光的刻蚀圆孔,分别是奇数环的透光孔和偶数环的刻蚀位相透光孔,其中刻蚀位相透光孔的位相是π,每个刻蚀圆孔的大小与相应的环带宽度相同,该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成全环光子筛。利用本发明,实现了将高斯光束和其他波前不均匀激光束变换为波前近似平面的衍射光束。 | ||
搜索关键词: | 阵列 光子 筛匀光器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种阵列全环光子筛匀光器,其特征在于,该阵列全环光子筛匀光器是在透明介质上制造的全环光子筛阵列,采用全环光子筛作为基本单元,该全环光子筛是一个在透明基片上制造的基于菲涅尔波带片的多个圆孔,先在透明介质上制造衍射孔径为相应菲涅耳圆环的一倍光子筛,然后在其余的菲涅耳环带处仍然刻蚀圆孔,圆孔的数量和位置的决定规律与光子筛圆环相同,只是从原来的偶数环增加到奇数环,或者从原来的奇数环增加到偶数环,这样在波带片的奇数和偶数环带都有透光的刻蚀圆孔,分别是奇数环的透光孔和偶数环的刻蚀位相透光孔,其中刻蚀位相透光孔的位相是π,每个刻蚀圆孔的大小与相应的环带宽度相同,该刻蚀圆孔与原来的衍射孔构成全环光子筛。
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