[发明专利]取向质检方法及装置无效
申请号: | 200910093829.X | 申请日: | 2009-09-21 |
公开(公告)号: | CN102023398A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 金镇满 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种取向质检方法及装置,该装置包括:固定架,用于固定形成有取向膜的待测基板;光源,位于所述固定架下方;第一偏光板,位于所述光源及固定架之间;相位延迟元件,位于固定架的上方;第二偏光板,位于所述相位延迟元件的上方;摄像装置,位于所述第二偏光板的上方。本发明取向质检方法及装置,通过偏光板及相位延迟元件,代替了现有的水蒸气喷射法,能够方便、快速且准确地判断摩擦工艺的不良。 | ||
搜索关键词: | 取向 质检 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种取向质检装置,其特征在于,包括:固定架,用于固定形成有取向膜的待测基板;光源,位于所述固定架下方;第一偏光板,位于所述光源及固定架之间;相位延迟元件,位于固定架的上方;第二偏光板,位于所述相位延迟元件的上方;摄像装置,位于所述第二偏光板的上方。
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