[发明专利]一种太阳能硅单晶的制作方法有效

专利信息
申请号: 200910098437.2 申请日: 2009-05-11
公开(公告)号: CN101565851A 公开(公告)日: 2009-10-28
发明(设计)人: 徐国六 申请(专利权)人: 浙江金西园科技有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 代理人: 王洪新
地址: 324300*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种太阳能硅单晶的制备方法。目的是提供一种太阳能硅单晶的制备方法的改进,该制作方法应具有节约了资源,降低了生产成本、提高了经济效益;同时利用制备方法制备得到的太阳能硅单晶还具有很好地清洁性、安全性,且寿命较长,具有良好的产品性能。本发明的技术方案:一种太阳能硅单晶的制作方法,其特征在于:利用废弃的多晶硅下脚料作为主要原料来制备太阳能硅单晶,其制作方法包括以下步骤:第一步:首先对多晶硅下脚料进行分类;第二步:将多晶硅下脚料投入坩埚内进行拉制。
搜索关键词: 一种 太阳能 硅单晶 制作方法
【主权项】:
1、一种太阳能硅单晶的制作方法,其特征在于:利用废弃的多晶硅下脚料作为主要原料来制备太阳能硅单晶,其制作方法包括以下步骤:第一步:首先对多晶硅下脚料进行分类:(1)将多晶硅下脚料的头尾料、埚底料、废片料分别放置,(2)将分置好的多晶硅下脚料按检测类别及电阻率高低进行分类,分为:N型电阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四档;P型电阻率:0.5Ω.cm以下,0.5~1.6Ω.cm,1.6~6Ω.cm及>6Ω.cm四档;(3)清洗:将分类好的多晶硅下脚料用酸性溶液清洗浸泡一段时间后,去掉表面杂质,再用大于15兆的去离子水漂洗10~15分钟。(4)干燥:将完成表面清洗的多晶硅下脚料进行表面干燥;第二步:将多晶硅下脚料投入坩埚内进行拉制:(1)将上述完成表面清洗、干燥的头尾料、埚底料、废片料进行合理的配比后投入单晶炉的石英坩埚中,头尾料、埚底料、废片料之间的重量配比为:4~8∶3~7∶1;(2)将多晶硅下脚料装入单晶炉后,抽真空、加氩气后,分3~4次升温到1600℃,硅料完全熔化后,静置挥发1.5~2.5h,启动埚转0.5~1h,停止埚转,再挥发0.5~1h后,进行试拉制;(3)a、若试拉制成功,先测量试拉制得到的小段单晶棒的电阻率,电阻率符合要求,进行正常的拉制,得到最终的太阳能硅单晶;b、若由于杂质过多、引晶不成功,先拉制一小段多晶棒,粘掉杂质,重新静置挥发0.5~2小时后,再进行正常拉制;若再次引晶不成功,直接将拉制得到的多晶棒敲碎后重新酸洗、配比,重新投炉。
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