[发明专利]一种用于提纯硅的除磷熔渣无效
| 申请号： | 200910102782.9 | 申请日： | 2009-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN102020279A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 吴展平 | 申请（专利权）人： | 贵阳宝源阳光硅业有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 贵阳东圣专利商标事务有限公司 52002 | 代理人： | 徐逸心 |
| 地址： | 550014 贵州*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征在于：熔渣由脱磷剂、助熔剂和助剂组成，脱磷剂是具有强还原性的钙的化合物或含钙的金属合金CaC2、CaAl、CaSi、CaSiAl、CaSiMg、CaMg中的任一种或两种以上；助熔剂是钙的卤化物，优选为氟化钙，助剂为碱土金属的氧化物。本发明可应用于在真空感应炉上提纯硅去除杂质磷的过程中，在惰性气体保护下进行脱磷的反应。经过脱磷后的硅，磷含量小于1ppm。该熔渣具有强还原性，能提高硅中磷的活度，易于与硅中磷发生化学反应；易于吸收、络合经过脱磷后的反应产物，从而降低脱磷产物的活度，使脱磷反应进行的彻底；具有比金属单质钙低的蒸汽压，利于提高渣的利用率和磷的去除率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 提纯 磷熔渣 | ||
【主权项】：
一种用于提纯硅的除磷熔渣，其特征在于：熔渣是由脱磷剂、助熔剂和助剂组成，脱磷剂是具有强还原性的钙的化合物或含钙的金属合金CaAl、CaSi、CaSiAl、CaSiMg、CaMg、CaC2中的任一种或两种以上，助熔剂为钙的卤化物，助剂为碱土金属的氧化物。
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